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小型ウェットケミカル 処理装置 MC-R100P

小型ウェットケミカル 処理装置 MC-R100P

液晶、半導体、太陽電池等で一般的に行われているケミカルスプレイ処理、浸漬(ディップ)処理が可能です。
ラボスケールながら、生産現場に近いプロセス環境を実現できるので、生産現場での様々な事象を開発にフィードバックすることができます。
材料開発、プロセス研究等で、基礎実験と生産現場での実地テストの間を埋める中間評価などに、最適な装置です。

特長

  1. 薬液噴霧処理、浸漬処理に対応しており、薬液によるエッチングを始め、純水洗浄等、様々な実験に対応します。
  2. 温調機能、薬液循環機能を搭載し、生産現場に近いプロセス環境を実現しました。
  3. 処理漕内で基材を往復運動(搖動)させることも可能です。
  4. 排気ダクトの接続も可能です。

量産装置への展開

大型基板まで、多彩なラインアップで量産展開をサポートします。
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装置仕様

 対象基材
ガラス基板、樹脂基板、フィルム、金属箔など
 対象薬液
酸、アルカリ、有機溶剤など
※処理槽は、SUS仕様またはPVC仕様より選択いただけます。

 基材サイズ

~150x150 mm(角形基材)
~W150 x L300 x H100 mm(立体)
※他サイズはご相談ください。
 処理ツール
スプレイノズル/基材搖動機能/浸漬(ディップ)処理
 装置サイズ
 (W×D×H)
800 x 1,100 x 1,100 mmm(本体)

 

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