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IBAD

IBAD

UNIVACが誇る、さまざまな光学膜成膜に最適なEB蒸着システム

特長

  1. 低温・薄膜成膜が可能
  2. 自社開発の拡散ポンプで、排気時間を短縮
  3. 最大限の生産量を確保する、安定した成膜と優れた均一性
  4. 容易なオペレーション
  5. メンテナンス性に優れた構造

Ion Beam Source(End-hall type)

膜質コントロール

イオンビームでアシストすることで、密着性や膜密度を向上。
また、吸収、散乱を抑え、屈折率、膜応力のコントロールが可能です。
イオンエネルギーの高いRF Grid Type の選択も可能です。

Electron Beam Source Module and Crucibles

高効率加熱

直接蒸着材料を加熱するため、W, Ta, Moや酸化物など高融点材料の蒸着が可。

反応レスるつぼ

水冷式銅製るつぼを使用。熱による蒸着材料との反応がないため、ピュアな材料を蒸着できます。

ランニングコスト低減

電子ビーム源には耐久性に優れたタングステンフィラメントを使用。抵抗加熱式と比較して、大幅にランニングコストが削減されます。

成膜能力(例)

 層数
6-11層 
 反射率(AR)
≦ 1.0% 
 接触角(AF)
≧ 110° 
 基板サイズ
250mm × 170mm 
 処理枚数/バッチ
45pcs 
 タクト時間
80min 

IBAD Series

univac_2050_table01.jpg
UNIVAC-900
Size : Φ900xH1080

UNIVAC-1050
Size : Φ1050xH1280
univac_2050_table03.jpg
UNIVAC-1200
Size : Φ1200xH1080
univac_2050_table04.jpg
UNIVAC-1350
Size : Φ1350xH1400
univac_2050_table05.jpg
UNIVAC-1500
Size : Φ1500xH1500
univac_2050_table06.jpg
UNIVAC-1650
Size : Φ1650xH1850
univac_2050_table07.jpg
UNIVAC-2700
Size : Φ2700xH1750
univac_2050_table08.jpg
UNIVAC-2000H
Size : Φ2000xH1750

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