ホーム > 製品情報 > 実験用LIAスパッタ装置 VS-R400G/F

印刷

実験用LIAスパッタ装置 VS-R400G/F

実験用LIAスパッタ装置 VS-R400G/F

特長

  1. 実験・研究・評価・試作に最適なスパッタ装置。
  2. LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP) によるアシスト効果により、高速/高精度/低ダメージ成膜を実現します。
  3. 反応性スパッタにはLIA-ICPアシスト機能を付加し、従来比5倍以上の超高速成膜を実現しました。(*当社比)
  4. 純金属スパッタにはロータリーカソードを搭載し、高速成膜と、COO削減を両立しました。
  5. 本実験機での実証後は、生産機へのフィードバックが容易です。

  LIAについて
  株式会社イー・エム・ディー(当社グループ会社)のサイトへ


量産装置への展開

大型基板まで、多彩なラインナップで量産展開をサポートします。

装置仕様

 型番
VS-R400G
VS-R400F
 対象基材
ガラス板、金属板などの平板
樹脂フィルム(PET、PEN)、金属箔
 対象膜
ITO、アルミナ、化合物、各種金属膜
 基材サイズ※
W400 x L500 mm
川幅500㎜
 成膜方法
デポダウン、インライン成膜

※他基材サイズ対応につきましては、お問い合わせください。

 

※LIAは株式会社イー・エム・ディーの商標です。

 

  • お問い合わせはこちら

ページの先頭に戻る