グループニュース

ホーム > グループニュース > グループニュースアーカイブ:1998年 > 業界初の非接触・非破壊式ウエハー測定装置を米SSM社にOEM供給

印刷

1998年6月23日

業界初の非接触・非破壊式ウエハー測定装置を米SSM社にOEM供給

大日本スクリーン製造株式会社(本社:京都市上京区/社長:石田明)は、5月29日、米国のシリコンウエハー測定機器メーカーSolid State Measurements,Inc.(本社:米国・ペンシルベニア州、ピッツバーグ市/社長:C.A.Thomas氏、以降SSM社と略す)およびその子会社 日本エス・エス・エム株式会社(本社:東京都町田市/社長:蒲谷正文氏)と、 当社が製造する非接触・非破壊式ウエハー測定装置「CV-3000」のOEM供給契約を締結しました。これに基づいて、当社は7月1日から同装置をSSM社へ出荷し、同社は独占的にその販売と保守サービスを全世界で開始します。

SSM社はウエハーの電気特性を評価する装置を製造販売しており、その市場において世界シェアの約52%を占めています。このたびのOEM供給により、同社は今まで弱かった分野の装置を製品ラインアップに加えることで製品戦略が強化できること、当社にとっては同機種の出荷台数の増加が期待できるなど、両社の戦略が一致したものです。当社はこの契約により初年度5億円の売上を見込んでいます。

今回の供給対象となったC-V測定装置「CV-3000」は、半導体製造ラインの中で酸化膜形成、洗浄、エッチング、イオン注入などの工程で処理されたウエハーの電気特性(C-V方式)を測定し、各工程でウエハーが設計どおりプロセスされているかどうかを検査する装置です。業界初の非接触・非破壊式検査を実現したことにより、従来の接触・破壊式の測定装置と比べ、電極形成などの測定前の準備が不要となり評価に要する時間が大幅に削減できる上、従来法では対応できなかった同一条件下での繰り返し測定も可能となりました。非接触・非破壊式によってウエハーへの汚染も最小に押さえることができ、検査後のウエハーを再利用することも可能です。半導体製造工程での歩留まりを改善し、非常に高価な300ミリウエハーの品質評価、次世代プロセスや装置の開発評価などに伴うコストを低減できます。

■C-V測定装置「CV-3000」の特長

  1. 300ミリウエハーに対応。
  2. ウエハーと電極の間に微小なエアギャップを介することにより、電気特性(C-V、C-t特性)を非接触・非破壊で測定。従来法に比べ、簡単でスピーディーな作業を実現。
  3. 測定時には外光を完全に遮断し、C-V測定の原則である熱平衡条件を確保。
  4. 従来法と等価の測定結果が得られ、高い再現性を達成。
  5. 従来法では対応できなかった酸化直後のウエハーやエピタキシャル成長直後のベアウエハーも測定可能。
  6. 自動マッピング、測定条件管理、不要ユーティリティ自動停止などの便利な機能を搭載。

■Solid State Measurements,Inc. の概要

  • 設立日: 1970年4月30日
  • 資本金: 625万米ドル(1997年12月31日)
  • 社 長: Charles A. Thomas
  • 住 所: 110 Technology Drive, Pittsburgh, PA 15275 USA
  • 従業員: 70名(子会社を含む)
  • 売 上: 1,230万米ドル(1997年12月31日)
  • 子会社: 日本法人 SSM Japan K.K./独法人 Solid State Measurements GmbH

■日本エス・エス・エム株式会社(英語名:SSM Japan K.K.)の概要

  • 設立日: 1987年5月27日
  • 資本金: 1千万円(SSM社の100%子会社)
  • 役 員: 代表取締役 蒲谷 正文
  • 住 所: 東京都町田市原町田2丁目3番1号
  • 事業内容:半導体測定装置の販売および技術サービス
  • 従業員: 9名

業界初の非接触・非破壊式ウエハー測定装置「CV-3000」

ページの先頭に戻る