グループニュース

ホーム > グループニュース > グループニュースアーカイブ:1998年 > 300ミリウエハに対応した自動膜厚測定装置「VM-2000/3000」シリーズを発売

印刷

1998年11月16日

300ミリウエハに対応した自動膜厚測定装置
「VM-2000/3000」シリーズを発売

大日本スクリーン製造株式会社(本社:京都市上京区/社長:石田 明)は、200ミリ、300ミリウエハに対応した光干渉式膜厚測定装置ラムダエース「VM-2000/3000」シリーズを開発、1998年11月16日から販売します。なお、12月2日から4日まで千葉県幕張メッセで開催される半導体製造装置・材料の総合展示会「セミコンジャパン」に実機展示を行います。

「VM-2000/3000」は、ウエハの膜厚を自動的に測定できる装置として好評のラムダエースシリーズで、優れた測定精度・再現性に加え、パターン認識機能と自動搬送機構など数々の機能を継承し、さらに従来機に比べ約40%(当社比)設置スペースを削減しました。また、Windows環境で動作するソフトウエアを採用しており操作性が大幅に向上し、処理能力にも優れています。

<製品価格・税別>

VM-2000シリーズ 1,450万~2,500万円
VM-3000シリーズ 1,900万~3,100万円

<年間販売台数>

両シリーズ合わせて 30台

Windows対応でさらに操作性が向上した「VM-2000/3000」シリーズ

<特長>

  1. Windows対応のアプリケーションを採用し操作性を向上させました。マウス操作で誰にでも簡単に測定ができます。また、レシピ登録作業も簡潔に行えます。
  2. 設置スペースが、従来機の約40%(当社比)という省スペース化を実現。ユニット化設計によりユーザーのあらゆるニーズに対応できる装置構成が可能です。
  3. わずか1秒の高速測定(SiO2 on Siの場合)が可能。画面切り替えもスピーディーで、作業にロスタイムが生じません。
  4. 標準で25膜種の膜厚測定ができます。UVオプションを取り付けると超薄膜あるいはSOI、ポリシリコン上の膜測定も可能です。また、ユーザ定義機能により数多くの測定プログラムを作成することができます。
  5. 0.1nmの優れた再現性で膜厚を測定します。(SiO2 on Si、1μmを10x対物レンズで測定の場合)
  6. 直径1μmの微小スポットの膜厚測定が可能。また、パターン認識(オプション)によりパターン付きウエハを自動マッピングできます。

<仕様>

・ウエハサイズ

VM-2000シリーズ:φ100mm、125mm、150mm、200mm
VM-3000シリーズ:φ200mm、300mm

・機能

各種基板上の薄膜25種類(UV仕様の場合は29種類)の膜厚測定(多層膜同時測定)、分光反射率測定及び屈折率測定、測定プログラムのユーザ登録、自動マッピング機能、測定データの各種2次加工処理

・測定領域

φ10μm (5x対物レンズ/オプション)
φ5μm (10x対物レンズ)
φ2.5μm (20x対物レンズ)
φ1μm (50x対物レンズ)
φ7μm (15x対物レンズ/UV仕様)
φ2μm (50x対物レンズ/UV仕様)
*UV仕様の場合は15x、50x対物レンズの2種類です。
*パターンの種類によっては、アライメント時に使用できる対物レンズが限定されることがあります。

・測定範囲

10nm~20μm(SiO2 on Siを10x対物レンズで測定の場合)
1nm~20μm(UV仕様でSiO2 on Siを15x対物レンズで測定の場合)

・測定再現性(σ)

0.1nm(膜厚10nm~3μmの場合、UV仕様は膜厚5nm~3μm)
0.03%(膜厚3nm~20μmの場合)
*上記はいずれもSiO2 on Siの同一点を10x(UV仕様は15x)対物レンズで20回連続測定時。

ページの先頭に戻る