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台湾・TSMC社から「Excellent performance賞(洗浄・コーターデベロッパー部門)」を受賞

2015年12月4日

Doc. No.: SPE151204J

 

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズは12月3日、世界最大の半導体ファウンドリーのTSMC社(本社:台湾・新竹市/会長:Dr. Morris Chang氏)から、第15回「サプライチェーンマネジメントフォーラム」において、2015年度「Excellent performance in clean and track equipment」を受賞しました。

 

  

表彰式の模様

右:TSMC社 プレジデント&Co-CEO  Dr. Mark Liu氏
左:当社 代表取締役社長  須原忠浩

☆この画像の印刷用データは、下記URLよりダウンロードできます。
 (http://www.screen.co.jp/spe/nl-photo/SPE151204J.zip)

 

TSMC社が主催する「サプライチェーンマネジメントフォーラム」は毎年台湾で開催され、装置、材料、パッケージング、検査、ITシステム、環境関連のサービスなど、さまざまな分野から世界各国のサプライヤーが参加します。同フォーラムでは、年間を通じてTSMC社に高い貢献度を示したサプライヤーが特別に選出されるセレモニーが行われており、2015年は、SCREEN セミコンダクターソリューションズの枚葉洗浄装置「SU-3200」、コーターデベロッパー「SOKUDO DUO」の両装置が、高い装置性能を発揮し同社へのサポートに貢献したとして、「Excellent performance賞(洗浄・コーターデベロッパー部門)」を受賞。
TSMC社のDr. Mark Liu(プレジデント&Co-CEO)より表彰されました。

 

今回の受賞は、当社の洗浄装置、コーターデベロッパーが20-16nmノードで培った低コストでの装置生産性が更に向上していることに加え、10nm、7nmにおける最先端の研究開発の成果が高く評価されました。 2009年にリリースされたコーターデベロッパー「SOKUDO DUO」は、革新的な「デュアルトラックシステム」を搭載、その後の開発により液浸ArFコーティング、最新のEUV露光にも対応しています。また、2010年にリリースされた枚葉洗浄装置「SU-3200」は、先端ノード開発における更なる歩留まり向上と生産性の向上に不可欠な業界のスタンダードともいえる独自の「ウルトラクリーンチャンバーテクノロジー」を搭載しています。

 

当社は、2011年にもTSMC社より「Environmental Excellence賞」を受賞。「SU-3200」の炭素化合物や薬液の削減などの優れた環境性能が高く評価されています。当社は今後も、半導体洗浄装置のリーディングカンパニーとしてお客さまと一層強固な関係を築き、台湾市場をはじめ世界規模での販売・サービスの積極的な展開を図り、業界の発展に貢献していきます。

 

※ ファウンドリー(受託製造)
製造設備を持たない半導体開発企業から設計データを受け取り、その企業に代わり製造を専門に請け負う半導体メーカー。

 

 

TSMC社(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. /台湾積体電路製造股份有限公司)
1987年に設立。台湾・新竹市に本社を置く、世界最大の半導体専業ICファウンドリーメーカー。受託製造ビジネスモデルの創始者であり、同事業を牽引する企業として、最先端のウエハープロセス製造技術や卓越した製造効率を提供するなど、業界から高い評価を獲得し続けている。2013年のTSMC全体のウエハー製造能力は、完全子会社と資本投資している会社を合わせて、年間1,640万枚 (8インチウエハー換算) に達する。(URL:www.tsmc.com

 

 

 

本件についてのお問い合わせ先:
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
事業統轄部
TEL:075-417-2527
speinfo@screen.co.jp

 


  掲載されている情報は発表時のものです。最新情報と異なる場合がありますのでご了承ください。

 


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