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製品一覧

コータ・デベロッパ

DT-3000
DT-3000
コータ・デベロッパ
RF-310A
RF-310A
コータ・デベロッパ
SK-60EX/80EX
SK-60EX/80EX
コータ・デベロッパ
SC-80EX
SC-80EX
スプレーコータ

ウェーハ洗浄装置

ウェットステーション

FC-3100
FC-3100
ウェットステーション
WS-820L / WS-620C
WS-820L / WS-620C
ウェットステーション
FC-821L
FC-821L
ウェットステーション
CW-2000
CW-2000
コンパクトウェットステーション
CW-1500
CW-1500
コンパクトウェットステーション

スピンプロセッサ

SU-3300
SU-3300
枚葉式洗浄装置
SU-3200
SU-3200
枚葉式洗浄装置
SU-3100
SU-3100
枚葉式洗浄装置
SU-2000
SU-2000
枚葉式洗浄装置

スピンスクラバ

SS-3200
SS-3200
スピンスクラバ
SS-3100
SS-3100
スピンスクラバ
SS-80EX
SS-80EX
スピンスクラバ

ポリマ除去

SU-3100
SU-3100
枚葉式洗浄装置
SU-2000
SU-2000
枚葉式洗浄装置

熱処理装置

LT-3000/3100
LT-3000/3100
レーザーアニール処理装置
LA-3100
LA-3100
フラッシュランプアニール装置
LA-3000-F
LA-3000-F
フラッシュランプアニール装置
LA-830
LA-830
赤外線ランプアニール装置

計測装置

RE-3500
RE-3500
エリプソ式膜厚測定装置
RE-3100/3300シリーズ
RE-3100/3300シリーズ
エリプソ式膜厚測定装置
VM-3500
VM-3500
光干渉式膜厚測定装置
VM-2200/3200シリーズ
VM-2200/3200シリーズ
光干渉式膜厚測定装置
VM-1200/1300シリーズ
VM-1200/1300シリーズ
光干渉式膜厚測定装置
VM-1020/1030
VM-1020/1030
光干渉式膜厚測定装置

検査装置

ZI-3500
ZI-3500
パターン付ウェーハ外観検査装置
ZI-2000
ZI-2000
パターン付きウェーハ外観検査装置

後工程用露光装置

DW-6000
DW-6000
大型パネル用直接描画装置
DW-3000 for PLP
DW-3000 for PLP
大型パネル用直接描画装置
DW-3000
DW-3000
半導体後工程用直接描画装置

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