ホーム  > information > 洗浄装置3シリーズ、累計出荷台数7,000台を突破~半導体デバイスの微細化・高集積化を支え続けるSCREENの洗浄技術~

印刷

洗浄装置3シリーズ、累計出荷台数7,000台を突破~半導体デバイスの微細化・高集積化を支え続けるSCREENの洗浄技術~

2018年8月3日

Doc. No.: SPE180803J

 

 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズはこのほど、ウェットステーション「FCシリーズ」、枚葉式洗浄装置「SUシリーズ」、スピンスクラバー「SSシリーズ」から構成される半導体製造用ウエハー洗浄装置3シリーズにおいて、累積出荷台数が合計7,000台を突破したことをお知らせします。シリーズ別では、「FCシリーズ」と「SUシリーズ」がそれぞれ2,000台、「SSシリーズ」が3,000台となっています。

最新の枚葉式洗浄装置 SU-3300

この画像の印刷用データ(解像度300dpi)は、
下記URLよりダウンロードできます。
 (www.screen.co.jp/press/download/SPE180803.zip)

  


 

 今日、パソコンやスマートフォンなどのIT製品にとどまらず、IoTと呼ばれる、身の回りのあらゆるものがインターネットでつながっていく社会の中で、半導体デバイスの用途は拡大し続けています。この拡大する市場を支えるために半導体デバイスは、さらなる微細化・高集積化といった進化が続いています。高度な半導体デバイスでは回路が微細であるが故に、パーティクル※1・汚染物質が性能や歩留まりを大きく低下させる要因となります。そのため、それらの物質を除去するウエハー洗浄装置は、半導体デバイスの製造工程において欠かせないものになっています。

 当社の洗浄装置は、その生産性とパーティクル・汚染物質除去性能の高さが評価され、最先端のロジック・メモリーデバイスをはじめ、車載用パワーデバイスやIoT用通信デバイスなど、幅広い分野の製造工程で使用されています。そしてこれらの洗浄装置は、それぞれの洗浄装置部門での世界シェア※2において、全てナンバーワンを獲得するなど、市場での高い評価を得ています。

 当社は、洗浄装置のリーディングカンパニーとして、たゆまぬ技術革新と製品開発により、半導体デバイスの製造現場を支え、半導体業界の発展に貢献していきます。

※1 半導体素子や配線の性能・機能に悪影響を及ぼす微粒子。
※2 Gartner "Market Share: Semiconductor Wafer Fab Equipment, Worldwide, 2017" 18 April 2018 Chart created by SCREEN based on Gartner research Revenue from Shipments of Single-Wafer Processors, Wet Stations and Scrubbers, worldwide 2017

本件についてのお問い合わせ先:
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
社長オフィス 企画部
TEL:075-417-2527
speinfo@screen.co.jp


掲載されている情報は発表時のものです。最新情報と異なる場合がありますのでご了承ください。


ページの先頭に戻る